氧化膜應力的測量是氧化膜應力研究的基礎。已經(jīng)發(fā)展了多種氧化膜應力原位測量技術。由于氧化膜較薄，氧化膜與基體金屬構成一動態(tài)復合體系以及環(huán)境溫度高等特點，氧化膜應力的測試技術與常規(guī)薄膜的不同。從四十年代開始對氧化膜應力進行定量測量，由于技術的限制，測試范圍和精度一直達不到像薄膜殘余應力測量的程度。但是，近年來隨著新技術的應用和研究的深入，在氧化膜應力方面才取得了明顯進展。盡管如此，對氧化膜應力的研究工作還遠遠不夠，許多問題亟待進一步澄清。
總結(jié)了氧化膜應力產(chǎn)生和釋放機制，氧化膜應力原位測量技術以及稀土對氧化膜應力影響等方面的研究進展，以探求氧化膜應力研究的發(fā)展方向
材料表面的幾何形狀:
通常認為di一種因素是重要的。對各向同性的氧化膜，對實用純金屬， PBR通常大于1，氧化膜內(nèi)存在壓應力。而氧化物在基體金屬上取向生長造成晶格畸變。這部分應力只對特別薄的膜才明顯。對于不同的金屬體系或是在不同的氧化條件下，其它因素的作用也可能十分突出，甚至是主要的。例如，通常認為氧化鋁膜發(fā)生橫向生長，即新的氧化物主要在已形成膜內(nèi)的晶界處生成。此時，氧化膜橫向生長是應力產(chǎn)生的主要因素。另外，金屬試樣初始表面形狀對氧化膜內(nèi)應力的性質(zhì)及大小也有著十分明顯的影響。Hunt z認為，在許多情況下，氧化膜應力的性質(zhì)與氧化膜的生長機制有更直接的關系。
對于氧化膜生長應力產(chǎn)生的理論分析也進行了部分工作，提出了不同模型來解釋氧化膜內(nèi)存在的壓應力。例如，新的氧化物在晶界處生成模型，界面刃型位錯排列模型，界面突出物模型以及界面位錯攀移模型等。這些模型對理解應力產(chǎn)生機制是十分有益的。但在目前情況下，由于缺少必要的關于氧化膜性質(zhì)的參量，還達不到定量計算的程度
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